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光譜橢偏儀SE-2000

全光譜橢偏儀/Spectroscopic Ellipsometer產(chǎn)品主要特點(diǎn):Double stage spectrometerDetector: PMT in photon counting mode + dedicated detector for NIRSpectral range: 190 nm to 2400 nmSpectrometer Resolution <0.5 nm @

  • 品牌:Semilab
  • 型號:SE2000

光譜橢偏儀/Spectroscopic Ellipsometer


SE2000型光譜型橢偏儀是多功能薄膜測試系統,適合各種薄膜材料的研究。

產(chǎn)品描述

SE2000型光譜橢偏測試平臺基于橢圓偏振測試技術(shù),采用先進(jìn)的旋轉補償器,結合光纖將偏振光信號傳輸至分段光譜優(yōu)化的高分辨率單色儀或陣列式多通道攝譜儀,測得線(xiàn)偏振光經(jīng)過(guò)樣品反射后的偏振態(tài)變化情況,并通過(guò)樣品光學(xué)模型的建立,計算出單層或多層薄膜結構的厚度、折射率和消光系數,實(shí)現精確、快速、穩定的寬光譜橢偏測試。

 

SE2000型光譜橢偏測試平臺是Semilab針對產(chǎn)線(xiàn)和實(shí)驗線(xiàn)推出的多功能高速測試平臺。模塊化的設計,可選配300mm樣品臺或350*450mm平板樣品臺,Robot上片系統,圖形識別系統和數據通信系統,實(shí)現高速在線(xiàn)監控。在測試功能方面,可自由組合多種從190nm深紫外光譜至2400nm近紅外光譜的探測器,并可拓展FTIR紅外光譜測試模組、渦電流法非接觸式或4PP接觸式方塊電阻測試模組、Mueller Matrix各項異性材料測試模組、Raman結晶率測試模組、電子遷移率表征模組、LBIC光誘導電流測試模組、反射干涉測試模組等多種功能,使SE2000成為光學(xué)和電學(xué)特性表征綜合測試系統。

 

產(chǎn)品特點(diǎn)

業(yè)界專(zhuān)業(yè)光譜型橢偏儀測試設備廠(chǎng)商

業(yè)界標準測試機構定標設備,參與發(fā)布中華人民共和國橢圓偏振測試技術(shù)標準

業(yè)界較寬測試光譜范圍,選配190nm-25um,并可自動(dòng)切換快速探測模式和高精度探測模式

配置實(shí)時(shí)對焦傳感器,實(shí)現高速測量

選配Robot上片系統,圖形識別系統和數據通信系統,實(shí)現在線(xiàn)監控

獨特的樣品臺結構設計,優(yōu)化固定大尺寸的柔性材料

模塊化設計,可綜合監控樣品光學(xué)和電學(xué)特性

定期免費升級SOPRA材料數據庫

開(kāi)放光學(xué)模型擬合分析過(guò)程,方便用戶(hù)優(yōu)化測試菜單

 

主要應用

光伏行業(yè):薄膜電池透明導電膜、非晶硅微晶硅薄膜電池、CIGS薄膜電池、CdTe薄膜電池、有機電池、染劑敏感太陽(yáng)能電池

半導體行業(yè):High-K、Low-K、金屬、光刻工藝、半導體鍍膜工藝、外延工藝

平板顯示行業(yè):TFT、OLED、LTPS、IGZO、彩色濾光片

光電行業(yè):光波導、減反膜、III-V族器件、MEMS、溶膠凝膠

 


 

其他可選配置可來(lái)電咨詢(xún)

SE-2xxx-全自動(dòng)測試平臺

IRSE-紅外光譜型橢偏儀

SE-1100-適于測試柔性襯底材料

EP-橢偏測孔隙率

LE-103PV-激光型橢偏儀



  • 測試速度:<1 sec (快速測試模式)

                       <120 sec (高分辨率測試模式)

  • 測量光譜分辨率:<0.5nm@633nm (高分辨率測試模式)

                                  <0.8nm@633nm (快速測試模式)

  • 光譜范圍:193nm-2500nm,UV-VIS-NIR不同波長(cháng)范圍可選

  • 樣品尺寸:標準200mm直徑,可選 300mm

  • 厚度測量范圍:0.01nm-50um

  • 厚度測試精度:0.02nm @120nm SiO2 on Si

  • 折射率測試精度:0.002 @120nm SiO2 on Si

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